Target sputtering aluminum silicon (AlSi) adalah material sumber padat berbahan paduan yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Dalam proses sputtering, ion menumbuk permukaan target sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat, membentuk lapisan logam tipis. AlSi adalah paduan logam yang menggabungkan aluminium dengan silikon, kombinasi yang umum dipelajari karena sifat pembentukan lapisan dan konduktivitasnya.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran yang disesuaikan dengan sistem sputtering dan kebutuhan riset Anda.
- Riset lapisan metalisasi dan interkoneksi pada mikroelektronika dan perangkat semikonduktor
- Studi deposisi lapisan tipis untuk pelapis konduktif dan reflektif
- Pengembangan lapisan penghalang dan lapisan adhesi dalam tumpukan lapisan tipis multilapis
- Riset material mengenai komposisi lapisan paduan dan perilaku deposisinya
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—