Target sputtering Aluminum Silicon (AlSi) adalah material sumber padat yang terbuat dari paduan aluminium-silikon, dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan logam tipis. Sebagai paduan logam, target AlSi umumnya digunakan ketika diperlukan lapisan berbasis aluminium yang konduktif dan seragam.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Metalisasi film tipis untuk riset perangkat mikroelektronika dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan interkoneksi dan kontak yang konduktif
- Studi lapisan reflektif dan optik
- Lapisan logam pelindung dan dekoratif pada substrat kaca dan polimer
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—