Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Aluminum Silicon Copper (AlSiCu) Sputtering Targets

Aluminum Silicon Copper (AlSiCu) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 3.132.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 3.132.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Aluminium Silikon Tembaga (AlSiCu) adalah material paduan logam di mana sejumlah kecil silikon dan tembaga ditambahkan ke aluminium. Material ini disediakan sebagai target sputtering, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis logam pada substrat. Material ini termasuk golongan bahan paduan berbasis aluminium yang digunakan dalam riset lapisan tipis.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Studi metalisasi lapisan tipis untuk riset interkoneksi mikroelektronika
  • Pengembangan lapisan elektroda dan konduktif untuk perangkat MEMS dan sensor
  • Optimasi proses deposisi di laboratorium lapisan tipis akademik dan industri
  • Investigasi permukaan dan pelapisan untuk film reflektif atau konduktif

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—