Target sputtering antimon (antimony sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999% dengan ukuran 1'' dan ketebalan 0,125''. Target ini menjadi sumber material untuk deposisi lapisan tipis antimon melalui proses sputtering, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter merupakan teknik yang dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk substrat berbagai bentuk dan ukuran, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Antimon adalah unsur berwarna putih kebiruan dengan kilau logam, bernomor atom 51, dan berada di golongan 15 bersama arsen dan bismut. Sifat tahan apinya membuat antimon berguna untuk pelapis tahan api, dan unsur ini semakin banyak dipakai sebagai dopan pada silikon tipe-n. Antimon juga dapat dipadukan dengan unsur lain seperti timah atau indium, misalnya indium antimon oksida untuk lapisan konduktif transparan.
- Deposisi lapisan tipis antimon pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapis tahan api yang memanfaatkan sifat tahan api antimon.
- Perangkat optoelektronik seperti LED, dioda laser, fotodioda, dan sel surya.
- Aplikasi semikonduktor dengan antimon sebagai dopan pada silikon tipe-n untuk dioda, detektor inframerah, dan perangkat efek Hall.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi.
- Analisis komposisi permukaan seperti spektroskopi massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01AT08
- Material: Antimon (Sb)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Nomor atom: 51
- Kode produk: NG0ST01AT08
—
—