Target sputtering antimony (Sb) adalah pelat sumber logam padat yang digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis. Antimon merupakan unsur metaloid, dan target sputtering-nya termasuk dalam golongan target logam dan metaloid yang digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk pembuatan prototipe perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan fungsional dan lapisan senyawa yang mengandung antimon
- Studi lapisan tipis material perubah fasa dan optik di laboratorium ilmu material
- Pengembangan rekayasa permukaan dan proses pelapisan dalam R&D akademik maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—