Target sputtering antimon (Sb) merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Antimon adalah unsur metaloid yang banyak dipelajari dalam riset material semikonduktor, phase-change, dan termoelektrik. Target sputtering disediakan dalam bentuk yang sesuai untuk sistem magnetron atau sistem sputtering lainnya, sehingga peneliti dapat mendeposisikan lapisan yang mengandung antimon secara terkontrol pada substrat.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis antimon untuk riset memori phase-change
- Pembuatan lapisan tipis termoelektrik untuk studi konversi energi
- Pengembangan struktur perangkat semikonduktor dan optoelektronik
- R&D akademik dan industri pada lapisan paduan dan multilayer tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—