Target sputtering Barium (Ba) adalah material sumber padat yang terbuat dari barium, sebuah logam alkali tanah. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Karena barium sangat reaktif, target ini memerlukan penanganan dan penyimpanan yang hati-hati dalam kondisi terkendali.
- Quantity: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk material oksida elektronik dan feroelektrik
- Pengembangan lapisan fungsional berbasis barium pada substrat laboratorium
- Pembuatan struktur uji dalam riset material akademik dan industri
- Pengembangan dan optimasi proses pada sistem lapisan tipis vakum
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—