Target sputtering barium (Ba) merupakan lempeng padat barium, logam alkali tanah, yang dirancang sebagai material sumber untuk proses physical vapor deposition (sputtering). Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, yang kemudian terkondensasi pada substrat membentuk lapisan tipis. Barium merupakan logam yang reaktif, sehingga target jenis ini umumnya ditangani dalam kondisi terkendali.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis mengandung barium untuk riset dielektrik dan feroelektrik
- Fabrikasi lapisan tipis untuk prototipe perangkat elektronik dan fotonik
- Studi ilmu material pada sistem film oksida multikomponen dan superkonduktor
- Riset pelapisan permukaan di laboratorium deposisi vakum
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—