Target sputtering barium adalah sumber padat berbahan dasar barium yang digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis. Barium merupakan logam alkali tanah, dan targetnya umumnya digunakan dalam lingkungan riset untuk mendeposisikan lapisan senyawa yang mengandung barium. Karena barium bersifat reaktif secara kimia, penanganannya umumnya memerlukan kondisi terkontrol dan kering.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan barium titanat dan barium stronsium titanat untuk riset dielektrik dan feroelektrik
- Fabrikasi lapisan tipis oksida yang mengandung barium untuk studi perangkat elektronik
- Pengembangan lapisan tipis superkonduktor dan oksida kompleks lainnya
- Studi permukaan dan pelapisan di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—