Target sputtering barium (Ba) merupakan material sumber padat berbentuk massif yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target, lalu atom tersebut mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis. Barium adalah logam alkali tanah, sehingga produk ini termasuk golongan target logam. Sebagai logam yang reaktif, material ini umumnya ditangani dalam kondisi terkendali di lingkungan riset.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis oksida berbasis barium untuk riset material elektronik
- Pengembangan lapisan tipis feroelektrik dan dielektrik
- Pembuatan lapisan tipis untuk studi superkonduktor dan oksida fungsional
- Pengembangan proses pelapisan dan lapisan tipis di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—