Target sputtering barium (Ba) adalah pelat logam padat yang dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Pada sputtering, ion menghantam permukaan target sehingga atom barium terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Barium merupakan logam alkali tanah dan unsur yang reaktif, sehingga biasanya ditangani dalam kondisi terkendali, kering, atau inert untuk membatasi oksidasi.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan tipis untuk material oksida dan feroelektrik
- Deposisi lapisan mengandung barium dalam studi perangkat elektronik
- Pengembangan permukaan dan lapisan pelindung di laboratorium universitas maupun industri
- Pengembangan dan optimasi proses pada sistem sputter deposition
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—