Target sputtering barium (barium sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,5%. Produk ini menjadi sumber material untuk membentuk lapisan tipis barium melalui proses sputtering, di mana material yang terkikis dari target mengendap pada substrat seperti wafer silikon.
Barium (nomor atom 56, berat atom 137,27) adalah logam alkali tanah pada Golongan 2, Periode 6 tabel periodik. Sifat listriknya yang baik menjadikannya material sputtering yang berguna untuk pelapisan perangkat elektronik, aplikasi semikonduktor, dan layar datar (flat panel display). Barium juga dapat membentuk paduan dengan logam seperti stronsium dan titanium, yang banyak diteliti sebagai target sputtering dengan sifat yang lebih spesifik.
Deposisi sputter bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis barium pada substrat seperti wafer silikon.
- Pelapisan perangkat elektronik.
- Proses sputtering dalam fabrikasi semikonduktor.
- Pembuatan lapisan tipis untuk layar datar.
- Riset barium dan paduannya dengan stronsium atau titanium sebagai material sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA08
- Material: Barium (Ba)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Nomor atom: 56
- Berat atom: 137,27
- Kode produk: NG0ST01BA08
—
—