Target sputtering barium fluorida (barium fluoride sputtering target) BaF2 dari Nanografi merupakan bahan sumber untuk membuat lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering. Produk ini memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,250''.
Pada deposisi sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon. Metode ini dapat digunakan untuk beragam material serta substrat dengan bentuk dan ukuran berbeda. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, dapat ditingkatkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar, dan banyaknya parameter proses memungkinkan kontrol yang baik atas pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
Barium fluorida adalah garam yang tersusun dari barium dan fluor. Senyawa padat ini dapat berbentuk kristal transparan dan berkaitan dengan daerah inframerah pada panjang gelombang 10 hingga 20µm.
- Deposisi lapisan tipis barium fluorida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputtering (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan utama.
- Analisis material berbasis sputtering, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA14
- Material: Barium Fluorida (BaF2)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01BA14
—
—