Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Barium Fluoride (BaF2) Sputtering Targets

Barium Fluoride (BaF2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 88.745.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 88.745.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering barium fluoride (BaF2) adalah disk padat berdensitas tinggi dari senyawa fluorida logam anorganik. Target ini digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk menghasilkan lapisan tipis pada substrat. Barium fluorida termasuk golongan material halida optik dan dielektrik, yang dihargai untuk penggunaan pada lapisan riset.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis optik untuk riset komponen optik inframerah dan ultraviolet
  • Pengembangan lapisan dielektrik untuk prototipe perangkat elektronik dan fotonik
  • Studi lapisan tipis scintillator dan deteksi radiasi
  • Riset permukaan dan antarmuka pada sistem deposisi vakum

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—