Target sputtering barium strontium titanat (barium strontium titanate sputtering target) ini berbentuk cakram 2'' dengan ketebalan 0,125'', kemurnian 99,99%, dan ikatan elastomer. Target ini menjadi sumber material dalam proses deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
BST merupakan larutan padat dari barium titanat (BaTiO3) dan strontium titanat (SrTiO3). Lapisan tipis BST hasil sputtering dikenal memiliki konstanta dielektrik tinggi, kemampuan tuning (tunability), serta rugi dielektrik rendah, sehingga banyak dipakai pada perangkat lapisan tipis feroelektrik untuk komponen gelombang mikro yang dapat disetel, seperti delay line, resonator, phase shifter, dan varaktor.
Proses sputtering bersifat berulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari riset skala kecil hingga produksi pada area substrat menengah hingga besar. Banyaknya parameter proses memungkinkan pengendalian pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat, termasuk melalui ketebalan film, ukuran butir, rasio Ba/Sr, kekosongan oksigen, doping, dan annealing.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik BST pada substrat seperti wafer silikon.
- Pembuatan perangkat gelombang mikro yang dapat disetel, seperti delay line, resonator, phase shifter, dan varaktor.
- Penelitian lapisan tipis feroelektrik, termasuk studi rasio Ba/Sr, doping, annealing, dan struktur multilapis.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi.
- Analisis komposisi berbasis sputtering, seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA21
- Material: Barium Strontium Titanat (BaO4SrTi)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Ikatan: Elastomer
- Kode produk: NG0ST01BA21
—
—