Target sputtering barium strontium titanat (barium strontium titanate sputtering target) tipe elastomer ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,99%. Produk ini digunakan sebagai bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis BST melalui proses sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
BST merupakan larutan padat dari barium titanat (BaTiO 3) dan strontium titanat (SrTiO 3). Lapisan tipis BST hasil sputtering dikenal memiliki konstanta dielektrik tinggi, sifat dapat disetel (tunability), dan rugi dielektrik rendah, sehingga perangkat lapisan tipis feroelektrik berbasis BST banyak dikembangkan untuk komponen gelombang mikro yang dapat disetel, seperti delay line, resonator, phase shifter, dan varaktor.
Deposisi sputter adalah proses yang dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses memberi kendali luas atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan, termasuk untuk mengkaji pengaruh kekosongan oksigen, ketebalan lapisan, ukuran butir, rasio Ba/Sr, doping, anil, dan struktur multilapis.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik BST pada substrat seperti wafer silikon.
- Pembuatan perangkat gelombang mikro yang dapat disetel, seperti delay line, resonator, phase shifter, dan varaktor.
- Riset lapisan tipis feroelektrik untuk mencapai tunability lebih tinggi dan rugi dielektrik lebih rendah.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis komposisi, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA24
- Material: Barium Strontium Titanat (BaO4SrTi)
- Tipe: Elastomer
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
—
—