Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Barium Titanate (BaTiO3) Sputtering Targets

Barium Titanate (BaTiO3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 88.745.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 88.745.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering barium titanate (BaTiO3) adalah material sumber keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk film tipis. BaTiO3 termasuk dalam golongan oksida perovskit dan dikenal luas karena sifat feroelektrik dan dielektriknya, sehingga menjadi material penting dalam riset oksida fungsional.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran yang disesuaikan dengan kebutuhan riset Anda.

  • Riset film tipis feroelektrik
  • Lapisan dielektrik untuk pengembangan kapasitor
  • Pembuatan prototipe perangkat piezoelektrik dan sensor
  • Studi lapisan elektro-optik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—