Target sputtering barium zirkonat (barium zirconate sputtering target) BaZrO3 dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,250'', dan dipasok per satu buah. Target ini menjadi sumber material dalam proses deposisi lapisan tipis secara sputtering, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
Barium zirkonat termasuk elektrokeramik, yaitu golongan material keramik yang terutama dimanfaatkan karena sifat listriknya. Target dari senyawa ini cocok untuk bidang semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap fisik (PVD), serta aplikasi layar, optik, dan feroelektrik.
Deposisi sputtering merupakan proses yang dapat diulang dengan hasil konsisten dan dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan; reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat, tergantung kondisi proses.
- Deposisi lapisan tipis barium zirkonat pada substrat seperti wafer silikon.
- Pemrosesan semikonduktor, termasuk etsa sputter yang membutuhkan anisotropi tinggi.
- Proses CVD dan PVD untuk aplikasi layar dan optik.
- Pembuatan lapisan untuk aplikasi feroelektrik.
- Teknik analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | BaZrO3 |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA49
- Material: Barium zirkonat
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kelas material: Elektrokeramik
- Kode produk: NG0ST01BA49
—
—