Target sputtering barium zirkonat (barium zirconate sputtering target) dari Nanografi ini tersusun dari senyawa BaZrO3 dengan kemurnian 99,99%, berukuran 2'' dan tebal 0,125''. Target ini menjadi sumber material dalam deposisi lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering, yaitu ketika material dari target terkikis lalu mengendap pada substrat seperti wafer silikon.
Barium zirkonat termasuk elektrokeramik, yaitu golongan material keramik yang dimanfaatkan terutama karena sifat listriknya. Target dari senyawa ini cocok untuk aplikasi semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD) dan deposisi uap fisik (PVD), layar (display), optik, serta aplikasi feroelektrik.
Proses deposisi sputtering bersifat dapat diulang dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Banyaknya parameter proses membuatnya cukup kompleks, namun memberi kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis barium zirkonat pada substrat seperti wafer silikon.
- Proses semikonduktor, CVD dan PVD.
- Aplikasi pelapisan untuk layar dan optik.
- Aplikasi lapisan tipis feroelektrik.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA50
- Material: Barium zirkonat (BaZrO3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01BA50
—
—