Target sputtering barium zirkonat (barium zirconate sputtering target) BaZrO3 dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, berdiameter 2'' dengan ketebalan 0,250'', dan dipasok per satuan untuk deposisi lapisan tipis. Barium zirkonat termasuk elektrokeramik, yaitu golongan keramik yang dimanfaatkan terutama karena sifat listriknya, sehingga relevan untuk riset semikonduktor, display, optik, dan feroelektrik.
Pada deposisi sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat seperti wafer silikon hingga membentuk lapisan tipis. Metode ini dapat diterapkan pada substrat beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari skala riset kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat, dan banyaknya parameter yang dapat diatur memberi kendali tinggi atas pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis barium zirkonat pada substrat seperti wafer silikon.
- Pemrosesan lapisan tipis untuk semikonduktor.
- Proses physical vapor deposition (PVD) dan chemical vapor deposition (CVD) untuk pelapisan display dan optik.
- Riset lapisan tipis feroelektrik.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA51
- Material: Barium zirkonat (BaZrO3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
—
—