Target sputtering barium zirkonat (barium zirconate sputtering target) BaZrO3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berdiameter 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,99%. Target ini menjadi bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis barium zirkonat melalui proses sputtering dan dipasok per satu buah.
Barium zirkonat termasuk elektrokeramik, yaitu golongan keramik yang terutama dimanfaatkan karena sifat listriknya. Target dari senyawa ini cocok untuk aplikasi semikonduktor, deposisi uap kimia (chemical vapor deposition/CVD), deposisi uap fisik (physical vapor deposition/PVD), layar, optik, serta aplikasi feroelektrik.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar, dan banyaknya parameter proses memungkinkan kendali yang cermat atas pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis barium zirkonat pada substrat seperti wafer silikon.
- Pemrosesan semikonduktor, termasuk sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi.
- Proses deposisi uap fisik (PVD) dan deposisi uap kimia (CVD).
- Aplikasi pelapisan untuk layar dan optik.
- Riset dan perangkat lapisan tipis feroelektrik.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | BaZrO3 |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BA55
- Material: Barium zirkonat
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01BA55
—
—