Target sputtering bismuth (Bi) adalah sumber logam padat yang dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Bismuth merupakan logam pasca-transisi yang berat, dan target sputtering dari unsur ini digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis berbasis bismuth ke substrat dalam lingkungan riset dan pengembangan. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target, melepaskan atom yang kemudian mengendap di substrat membentuk lapisan yang seragam.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis yang mengandung bismuth
- Studi lapisan termoelektrik dan konversi energi
- Pengembangan lapisan perangkat elektronik dan semikonduktor
- Eksperimen dasar ilmu material dan pelapisan permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—