Target sputtering Bismuth (Bi) adalah pelat padat dan rapat dari logam bismut, golongan logam pasca-transisi yang berat, yang disiapkan untuk digunakan dalam sistem physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi mengikis permukaan target dan mengendapkan atom bismut pada substrat, membentuk lapisan tipis untuk keperluan riset dan pengembangan. Material ini termasuk dalam golongan material sputtering logam yang digunakan dalam teknologi lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pengembangan material termoelektrik dan material fungsional berbasis bismut
- Studi lapisan optik dan pelindung pada substrat laboratorium
- Investigasi paduan dan material solder bebas timbal
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—