Target sputtering bismuth (Bi) adalah cakram atau pelat padat dan rapat yang terbuat dari unsur bismuth, logam pasca-transisi yang berat. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Produk nanomaterial ini disediakan untuk penelitian dan pengembangan skala laboratorium.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Penelitian deposisi lapisan tipis pada berbagai substrat
- Studi lapisan tipis termoelektrik berbasis bismuth
- Eksplorasi struktur perangkat phase-change dan semikonduktor
- Studi permukaan dan pelapisan di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—