Target sputtering bismut ferit (bismuth ferrite sputtering target) BiFeO3 dari Nanografi ini berupa cakram keramik dengan kemurnian 99,9%, berdiameter 2'' dan tebal 0,250'', yang digunakan untuk menumbuhkan lapisan tipis BiFeO3 melalui proses sputtering. Target umumnya dibuat dengan sintering atau rekristalisasi campuran oksida bismut dan besi pada suhu tinggi sehingga diperoleh material BiFeO3 satu fasa. Penggunaan indium bonding disarankan untuk target ini.
BiFeO3 adalah senyawa anorganik berstruktur perovskit dan termasuk material multiferoik paling menjanjikan. Material feroelektrik bebas timbal ini memiliki polarisasi remanen besar, suhu Curie tinggi, serta suhu Neel antiferomagnetik yang tinggi, dan kemungkinan satu-satunya material yang bersifat magnetik sekaligus feroelektrik pada suhu ruang dan di atasnya. Celah pita langsung 3,3 eV dan sifat fotovoltaik akibat polarisasi menjadikan lapisannya sangat sesuai untuk mempelajari efek fotovoltaik feroelektrik.
Deposisi sputtering bersifat dapat diulang, dapat ditingkatkan dari skala riset hingga produksi pada substrat menengah sampai besar, dan banyaknya parameter proses memungkinkan kontrol cermat atas pertumbuhan serta mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis BiFeO3 pada substrat seperti wafer silikon.
- Penelitian lapisan tipis multiferoik dan feroelektrik bebas timbal.
- Studi efek fotovoltaik feroelektrik pada lapisan bismut ferit.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi.
- Analisis komposisi permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BI23
- Material: Bismut Ferit (BiFeO3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Struktur kristal: Perovskit
- Celah pita: 3,3 eV (langsung)
- Bonding yang disarankan: Indium bonding
- Kode produk: NG0ST01BI23
—
—