Target sputtering bismut ferit (bismuth ferrite sputtering target) BiFeO3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,9%, tersedia per satu buah. Target ini digunakan sebagai bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis BiFeO3 melalui sputtering, metode yang hasilnya dapat diulang dan dapat ditingkatkan dari skala riset hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bismut ferit adalah senyawa anorganik berstruktur perovskit dan termasuk material multiferoik yang paling menjanjikan. Target ini umumnya dibuat melalui sintering atau rekristalisasi suhu tinggi dari campuran oksida bismut dan besi sehingga diperoleh material satu fase. Pengikatan indium (indium bonding) disarankan untuk target ini.
Sebagai material feroelektrik bebas timbal, BiFeO3 dikenal memiliki polarisasi remanen yang besar, suhu Curie tinggi, dan suhu Neel antiferomagnetik yang tinggi, serta mungkin satu-satunya material yang bersifat magnetik sekaligus feroelektrik pada suhu ruang dan di atasnya. Celah pita langsung 3,3 eV dan polarisasinya yang kuat menjadikan lapisan tipisnya sangat cocok untuk studi efek fotovoltaik feroelektrik.
- Deposisi lapisan tipis bismut ferit pada substrat seperti wafer silikon melalui sputtering.
- Pembuatan lapisan multiferoik yang memadukan sifat magnetik dan feroelektrik pada suhu ruang.
- Fabrikasi lapisan feroelektrik bebas timbal untuk perangkat riset.
- Penelitian efek fotovoltaik feroelektrik pada lapisan tipis BiFeO3.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | BiFeO3 |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BI27
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Struktur: Perovskit
- Celah pita: 3,3 eV (langsung)
- Pengikatan yang disarankan: Pengikatan indium
—
—