Target sputtering bismut ferit (bismuth ferrite sputtering target) BiFeO3 ini berbentuk cakram berukuran 5'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,9%, ditujukan untuk deposisi lapisan tipis oksida multiferoik. Pada proses sputtering, material dari target dikikis dan diendapkan pada substrat seperti wafer silikon. Prosesnya dapat diulang, dapat ditingkatkan dari skala riset hingga produksi, serta memberi kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
BiFeO3 adalah senyawa anorganik berstruktur perovskit dan termasuk material multiferoik paling menjanjikan. Target ini umumnya dibuat melalui sintering atau rekristalisasi suhu tinggi dari campuran oksida bismut dan besi sehingga diperoleh material satu fase. Penggunaan bonding indium direkomendasikan.
Sebagai feroelektrik bebas timbal, bismut ferit memiliki polarisasi remanen besar, suhu Curie tinggi, dan suhu Neel antiferomagnetik tinggi, serta menunjukkan sifat magnetik dan feroelektrik pada suhu ruang maupun di atasnya. Celah pita langsung 3,3 eV menjadikan lapisannya cocok untuk mempelajari efek fotovoltaik feroelektrik.
- Deposisi lapisan tipis bismut ferit pada substrat seperti wafer silikon.
- Riset material multiferoik yang memadukan sifat magnetik dan feroelektrik pada suhu ruang.
- Studi efek fotovoltaik feroelektrik pada lapisan BiFeO3.
- Pengembangan lapisan tipis feroelektrik bebas timbal.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | BiFeO3 |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BI29
- Ukuran: 5''
- Ketebalan: 0,250''
- Struktur: Perovskit
- Celah pita: 3,3 eV (langsung)
- Bonding yang direkomendasikan: Bonding indium
—
—