Target sputtering bismut ferit (bismuth ferrite sputtering target) BiFeO3 dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 6'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Target ini menjadi bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis BiFeO3 melalui sputtering, metode yang dapat diulang, cocok untuk substrat beragam bentuk dan ukuran, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
BiFeO3 adalah senyawa anorganik berstruktur perovskit dan termasuk material multiferoik yang paling menjanjikan. Target ini umumnya dibuat melalui sintering atau rekristalisasi suhu tinggi dari campuran oksida bismut dan besi sehingga diperoleh material satu fasa. Untuk target ini disarankan menggunakan indium bonding.
Sebagai feroelektrik bebas timbal, bismut ferit memiliki polarisasi remanen besar, suhu Curie tinggi, dan suhu Neel antiferomagnetik tinggi, serta kemungkinan satu-satunya material yang bersifat magnetik sekaligus feroelektrik pada dan di atas suhu ruang. Dengan celah pita langsung 3,3 eV, lapisan yang dibuat dengan baik sangat sesuai untuk mempelajari efek fotovoltaik feroelektrik.
- Deposisi lapisan tipis BiFeO3 pada substrat seperti wafer silikon.
- Penelitian lapisan tipis multiferoik dan feroelektrik bebas timbal.
- Studi efek fotovoltaik akibat polarisasi pada lapisan bismut ferit.
- Sputter etching yang membutuhkan anisotropi etsa tinggi tanpa mempersoalkan selektivitas.
- Metode analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | BiFeO3 |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01BI30
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,125''
- Struktur: Perovskit
- Celah pita: 3,3 eV (langsung)
- Bonding yang disarankan: Indium bonding
- Kode produk: NG0ST01BI30
—
—