Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets, indium

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 18.497.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 18.497.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Bismut oksida (Bi2O3) adalah oksida logam anorganik yang tergolong material keramik fungsional. Target sputtering merupakan potongan sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis pada substrat. Judul produk juga mencantumkan indium, sehingga detail konfigurasi ikatan atau backing perlu dikonfirmasi kepada AMI Scientific.

  • Jumlah: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan tipis bismut oksida untuk riset pelapis optik
  • Pengembangan lapisan oksida dielektrik dan fungsional dalam riset perangkat elektronik
  • Studi lapisan tipis fotokatalitik dan sensor
  • Riset material fungsional bebas timbal dalam bentuk lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—