Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets, indium

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 27.205.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 27.205.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Bismuth oksida (Bi2O3) adalah keramik oksida logam anorganik yang termasuk dalam keluarga material oksida berbasis bismut. Target sputtering adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari target dan diendapkan ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Judul produk juga menyebut indium, yang mungkin menunjukkan konfigurasi pengikatan (bonding) atau backing yang terkait; mohon konfirmasikan konfigurasi pastinya bersama tim kami.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan tipis optik dan dielektrik
  • Pengembangan lapisan tipis elektronik dan sensor
  • Studi film oksida fungsional untuk material energi dan fotokatalitik
  • Pengembangan proses PVD untuk akademik dan industri

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—