Target sputtering Bismuth Oxide (Bi2O3) adalah pelat keramik oksida anorganik yang rapat dan digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition. Selama proses sputtering, target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga bismuth oksida terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis pada substrat. Material ini umum dipilih oleh peneliti yang bekerja pada lapisan tipis oksida.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis oksida berbasis bismut untuk riset lapisan optik dan dielektrik
- Pembuatan lapisan tipis untuk prototipe perangkat elektronik dan sensor
- Studi lapisan tipis oksida untuk riset fotokatalitik dan permukaan fungsional
- Pengembangan proses dan optimasi parameter deposisi di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—