Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 13.272.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 13.272.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Bismuth Oxide (Bi2O3) adalah material sumber oksida keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Bismuth oxide termasuk dalam golongan keramik oksida logam dan banyak dipelajari dalam riset material karena sifat fungsional oksidanya.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Riset deposisi lapisan tipis untuk pelapis oksida fungsional
  • Pengembangan lapisan optik dan dielektrik tipis
  • Pembuatan film fotokatalitik dan sensor gas
  • Riset elektrolit padat dan material keramik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—