Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 24.303.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 24.303.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Bismuth oxide (Bi2O3) adalah keramik oksida logam anorganik dari golongan material oksida berbasis bismut. Sebagai sputtering target, material ini berfungsi sebagai sumber padat untuk physical vapor deposition (PVD). Ion membombardir target di dalam ruang vakum sehingga atom-atomnya terlepas dan terendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan tipis dielektrik dan optik
  • Pengembangan lapisan oksida fungsional untuk perangkat elektronik
  • Studi lapisan tipis sensor gas dan fotokatalitik
  • Pembuatan prototipe dan pengembangan proses di laboratorium universitas dan R&D

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—