Target sputtering bismuth oxide (Bi2O3) adalah material sumber padat berbahan keramik dari oksida logam anorganik. Target ini digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana sputtering memindahkan material dari target ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Bismuth oxide termasuk dalam keluarga keramik oksida yang dipelajari karena sifat optik, dielektrik, dan elektroniknya.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset pelapisan optik
- Investigasi lapisan tipis dielektrik dan elektronik
- Pembuatan prototipe lapisan oksida fungsional untuk perangkat elektronik
- Pengembangan struktur lapisan tipis sensor dan fotonik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—