Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets

Bismuth Oxide (Bi2O3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 27.786.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 27.786.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Bismut oksida (Bi2O3) adalah keramik oksida logam anorganik. Target sputtering merupakan material padat rapat yang digunakan sebagai sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana material dilepaskan dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Produk Nanografi ini disediakan sebagai target sputtering bismut oksida untuk proses deposisi laboratorium dan riset.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan tipis untuk perangkat optoelektronik dan dielektrik
  • Pengembangan lapisan oksida fungsional untuk studi sensor gas
  • Investigasi lapisan fotokatalitik dan pelindung
  • Pembuatan film uji untuk karakterisasi material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—