Target sputtering Boron (B) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (sputtering) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Boron merupakan unsur metaloid, dan produk ini dikategorikan dalam golongan nanomaterial pada lini Nanografi AMI Scientific. Judul produk mencantumkan deskriptor "elastomer", yang tidak sesuai dengan target boron pada umumnya, sehingga mohon konfirmasi kelas dan bentuk material yang tepat kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis pada kaca, silikon, dan substrat lainnya
- Pengembangan lapisan fungsional berbasis boron untuk riset material dan semikonduktor
- Studi permukaan dan pelapisan di laboratorium R&D universitas maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—