Produk ini adalah target sputtering boron (B), yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk film tipis. Boron termasuk golongan metaloid, dan target sputtering jenis ini digunakan pada sistem deposisi vakum untuk menyediakan material pelapis substrat. Judul produk juga menyebutkan indium, yang mungkin berkaitan dengan konfigurasi perekatan (bonding) atau backing target. Mohon konfirmasi komposisi dan konstruksi yang tepat kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Penelitian deposisi film tipis pada struktur perangkat semikonduktor dan elektronik
- Pelapis berbasis boron untuk studi ilmu permukaan dan material
- Pengembangan proses pada sistem magnetron sputtering
- Eksperimen pelapisan di laboratorium akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—