Target sputtering boron (B) adalah material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Termasuk dalam kategori nanomaterial Nanografi, target boron ini merupakan material anorganik dan ditawarkan dengan indium sebagaimana tercantum dalam judul produk. Harap konfirmasi komposisi dan bentuk pastinya kepada AMI Scientific sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapis tipis menggunakan sistem magnetron sputtering
- Pengembangan proses lapisan perangkat semikonduktor dan elektronik
- Studi lapisan pelindung dan lapisan fungsional
- Riset material lapis tipis berbasis boron
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—