Target sputtering Boron (B) adalah material sumber padat yang digunakan dalam sistem physical vapor deposition (PVD) dan sputtering untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis berbasis boron. Boron merupakan unsur metaloid, dan target ini disediakan dalam golongan nanomaterial Nanografi. Target ini memberikan sumber boron yang terkendali untuk riset dan pengembangan lapisan tipis skala laboratorium.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk pengembangan perangkat semikonduktor dan elektronik
- Pembuatan lapisan terdoping boron dalam studi ilmu material
- Riset lapisan pelindung dan keras untuk rekayasa permukaan
- Studi dasar lapisan tipis mengandung boron di laboratorium akademik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—