Boron (B) sputtering target adalah keping sumber padat yang terbuat dari unsur boron, sebuah metaloid. Dalam physical vapor deposition (PVD), target sputtering ditembaki ion berenergi tinggi di dalam ruang vakum, sehingga atom-atomnya terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Target boron digunakan untuk menghasilkan lapisan yang mengandung boron untuk riset di bidang elektronika, lapisan pelindung, dan material terkait nuklir.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan terdoping boron untuk riset semikonduktor dan mikroelektronika
- Pengembangan lapisan tipis pelindung yang keras dan tahan aus
- Pembuatan lapisan berbasis boron untuk riset deteksi neutron
- Studi ilmu material senyawa boron dalam bentuk lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—