Boron (B) sputtering target adalah material sumber padat yang terbuat dari unsur boron, sebuah unsur metaloid. Target ini dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD) seperti magnetron sputtering, di mana material target diuapkan dan diendapkan ke substrat untuk membentuk lapisan tipis berbasis boron di lingkungan laboratorium dan riset. Sputtering target umumnya dipilih sesuai sistem deposisi yang digunakan, geometri target, dan metode pengikatan, yang sebaiknya dikonfirmasi peneliti sebelum digunakan.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat semikonduktor dan elektronik
- Pengembangan lapisan keras dan tahan aus yang mengandung boron
- Studi rekayasa permukaan dan lapisan fungsional
- Riset ilmu material pada sistem lapisan tipis berbasis boron
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—