Boron (B) merupakan unsur metaloid yang banyak digunakan sebagai dopan dan material fungsional dalam riset semikonduktor serta lapisan tipis. Target sputtering boron adalah lempeng sumber padat yang dirancang untuk physical vapor deposition (PVD), di mana proses sputtering memindahkan atom boron ke substrat untuk membentuk lapisan tipis yang terkendali.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Sumber doping boron untuk pengembangan proses semikonduktor
- Deposisi lapisan tipis berbasis boron untuk riset elektronik dan optik
- Pengembangan lapisan keras dan pelindung
- Studi modifikasi permukaan di laboratorium akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—