Target sputtering Boron Carbide (B4C) adalah sumber keramik padat yang siap digunakan untuk proses sputtering, terbuat dari boron karbida, senyawa boron dan karbon yang terikat secara kovalen. Material ini termasuk golongan keramik maju dan material keras, yang dihargai dalam riset material karena kekerasan dan stabilitas kimianya. Target ini berfungsi sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga materialnya terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan pelindung tipis yang keras dan tahan aus
- Studi material penyerap dan perisai neutron
- Pengembangan deposisi lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan semikonduktor
- Investigasi ilmu material terhadap struktur dan kinerja lapisan keramik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—