Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Boron Carbide (B4C) Sputtering Targets

Boron Carbide (B4C) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 23.567.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 23.567.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Boron karbida (B4C) adalah senyawa keramik maju dari boron dan karbon, termasuk golongan keramik rekayasa yang keras dan ringan. Dipasok sebagai target sputtering, material ini ditujukan untuk proses physical vapor deposition (PVD) guna membentuk lapisan tipis boron karbida pada substrat untuk keperluan riset.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis keras dan tahan aus yang dipelajari dalam riset material
  • Pengembangan lapisan penyerap neutron dalam riset material nuklir
  • Studi deposisi lapisan tipis untuk perangkat semikonduktor dan mikroelektronika
  • Riset lapisan pelindung untuk komponen mekanik dan tribologi

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—