Boron karbida (B4C) adalah senyawa keramik dari boron dan karbon, tergolong keramik teknik maju yang dikenal karena kekerasan dan stabilitas kimianya. Target sputtering adalah lempeng padat dan rapat dari material tersebut yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis ke substrat dalam riset dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi film tipis untuk riset lapisan tahan aus dan pelindung
- Studi film tipis penyerap neutron dalam riset material nuklir
- Pengembangan proses film tipis semikonduktor dan mikroelektronika
- Pengembangan lapisan keras dan optik di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—