Target sputtering Boron Carbide (B4C) adalah material sumber padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. B4C merupakan senyawa keramik dari boron dan karbon, termasuk dalam golongan keramik keras maju yang dikenal karena kekerasan dan stabilitas kimianya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis pelindung yang keras
- Pengembangan lapisan permukaan tahan aus untuk perkakas dan komponen mekanik
- Studi lapisan penyerap neutron
- Riset lapisan tipis untuk perangkat semikonduktor dan MEMS
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—