Boron carbide (B4C) adalah keramik maju kovalen non-oksida, yang dihargai dalam riset material karena kekerasan dan densitasnya yang rendah. Sputtering target ini berfungsi sebagai material sumber untuk physical vapor deposition (PVD), yaitu untuk melapiskan film tipis boron carbide ke substrat di lingkungan laboratorium dan pengembangan.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan pelindung tipis yang keras dan tahan aus
- Pengembangan lapisan dan coating penyerap neutron
- Studi film tipis untuk struktur perangkat semikonduktor dan MEMS
- Riset rekayasa permukaan pada film keramik maju
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—