Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Boron Nitride (BN) Sputtering Targets

Boron Nitride (BN) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 16.988.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 16.988.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Boron nitrida (BN) adalah senyawa keramik maju dari boron dan nitrogen, dikenal dengan struktur berlapis heksagonal dan bentuk kubiknya. Sebagai target sputtering, material ini menjadi sumber untuk physical vapor deposition, di mana atom dilepaskan dan diendapkan pada substrat untuk membentuk film tipis. Material ini tergolong target keramik maju yang digunakan dalam riset film tipis.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi film tipis isolator dan dielektrik dalam riset elektronika
  • Studi lapisan pelindung dan tahan aus
  • Pertumbuhan dan karakterisasi lapisan boron nitrida heksagonal dua dimensi
  • Pengembangan lapisan optik dan dielektrik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—