Boron nitrida (BN) adalah senyawa keramik maju dari boron dan nitrogen, yang dihargai karena sifat isolasi listrik, kestabilan termal, dan ketahanan kimianya. Material ini termasuk golongan nanomaterial dan keramik maju. Target sputtering adalah blok sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapiskan film tipis material tersebut ke substrat melalui proses vakum yang terkendali.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi film tipis dielektrik dan isolator untuk riset perangkat elektronik
- Lapisan pelindung dan tahan aus yang dipelajari dalam rekayasa material
- Pengembangan film tipis untuk riset komponen optoelektronik dan suhu tinggi
- Eksperimen modifikasi permukaan di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—