1
/
dari
1
Nanografi
Nanografi NG0ST01BO32 Boron Nitride (BN) Sputtering Target 99.5% 8" x 0.125"
Nanografi NG0ST01BO32 Boron Nitride (BN) Sputtering Target 99.5% 8" x 0.125"
Harga reguler
Rp 51.277.000,00
Harga reguler
Harga obral
Rp 51.277.000,00
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.
Tidak dapat memuat ketersediaan pengambilan
Boron Nitride (BN) Sputtering Targets, Purity: 99.5%, Size: 8'', Thickness: 0.125'' dari Nanografi Advanced Materials.
Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.
Spesifikasi
| Material | Boron Nitride |
|---|---|
| Simbol | BN |
| Kemurnian | 99.5% |
| Ukuran | 8'' |
| Ketebalan | 0.125'' |
| SKU | NG0ST01BO32 |
Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.
Bagikan
